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Jörg Schultz

Carl Zeiss AG

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Lithographie-objektiv und projektionsbelichtungsanlage mit mindestens einem solchen lithographie-objektiv

2004
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Illumination optics design for EUV lithography

2000
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Système d' illumination avec sources lumineuses multiples

2000
- Dirk Rothweiler
- Jörg Schultz
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Beleuchtungssystem und REMA- (Retikel-Maskierungs-) Objektiv mit Linsenverschiebung und Betriebsverfahren dafür

1999
- Jörg Schultz
- Johannes Wangler
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