Lithographie-objektiv und projektionsbelichtungsanlage mit mindestens einem solchen lithographie-objektiv

Ein optisches Abbildungssystem fur eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage dient zur Abbildung eines in einer Objekt-ebene des Abbildungssystems angeordneten Objektfeldes in ein in einer Bildebene des Abbildungssystems angeordnetes Bildfeld. Es kann sich insbesondere um ein Projektionsobjektiv oder um ein im Beleuchtungs-system einzusetzendes Relais-Objektiv handeln. Das Abbildungssystem hat eine Vielzahl von Linsen, die zwischen der Objektebene und der Bildebene angeordnet sind und jeweils eine erste Linsenflache und eine zweite Linsenflache aufweisen. Mindestens eine der Linsen ist eine Doppelaspharenlinse, bei der die erste Linsenflache und die zweite Lin-senflache eine aspharische Flache ist. Bei Doppelaspharenlinsen ist es moglich, mit vertretbarem Aufwand bei der Oberflachenbearbeitung und Prufung der Linsenoberflachen Linsen mit guter Qualitat herzustellen, die die Wirkung einer Asphare mit sehr starker Deformation haben.