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300mm基板上にArF液侵リソグラフィーを用いて作製したシリコンフォトニクスデバイス(アクティブデバイスと集積化技術、一般「材料デバイスサマーミーティング」)
300mm基板上にArF液侵リソグラフィーを用いて作製したシリコンフォトニクスデバイス(アクティブデバイスと集積化技術、一般「材料デバイスサマーミーティング」)
2013
tomohiro kita
yuuiti akira taaruzi
kyou ki nara
syuu heiya
syuu hirosi toyama
miyosi kan
keizi kosino
nobuyuki yokoyama
mi ootuka
you sen sugiyama
eiiti isizuka
saku sano
tuyosi horikawa
hirohito yamada
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