反射型フォトマスクブランク、反射型フォトマスク、ならびにこれを用いたパターン転写方法

【課題】基板１と基板１上に設けられた多層反射膜２と、多層反射膜２上に設けられた光吸収層４、５を具備し、光吸収層４、５がタンタルを含有する複数の層からなり、多層反射膜２に近いほうの層に含まれるタンタルの含有率が、その後に積層して形成した層のタンタル含有率よりも高い反射型フォトマスクブランク１０において、ＥＵＶ光による露光時およびＤＵＶ光による検査時において反射領域に対して良好なコントラストが得られ、電子線でのパターン露光によるチャージアップのない反射型フォトマスクブランクおよびそれを用いた反射型フォトマスク並びにそれを用いたパターン転写方法を提供する。 【解決手段】タンタルを含有する複数の層４、５の上に、タンタル以外の金属を主成分として含有する層６をさらに積層してなることを特徴とする。 【選択図】図１