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Acemap > Paper > SiH 4 +B 10 H 14 マルチホロー放電プラズマ化学蒸着を用いた無クラスタBドープ水素化非晶質珪素膜の蒸着

SiH 4 +B 10 H 14 マルチホロー放電プラズマ化学蒸着を用いた無クラスタBドープ水素化非晶質珪素膜の蒸着

2012 
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