A process for the manufacture of acceleration sensors

Verfahren zur Herstellung von Sensoren, insbesondere von Beschleunigungssensoren, bei dem auf einem Trager (1) mit einer Opferschicht (2) in einer Epitaxieanlage eine Siliziumschicht (4) abgeschieden wird, die uber der Opferschicht (2) als Polysiliziumschicht (6) abgeschieden wird, wobei auf die Polysiliziumschicht (6) eine erste Photolackschicht (7) aufgebracht wird, die durch optische Verfahren als Atzmaske strukturiert wird, wobei in die Polysiliziumschicht (6) durch die Atzmaske Strukturen (8) eingebracht werden, die sich von der Oberseite der Polysiliziumschicht (6) bis zur Opferschicht (2) erstrecken, und wobei die Opferschicht (2) unter den Strukturen (8) entfernt wird, dadurch gekennzeichnet, das die Oberflache der Polysiliziumschicht (6) vor Aufbringen der ersten Photolackschicht (7) in einem Glattungsprozes nachbearbeitet wird.