Stress effect analysis for PD-SOI pMOSFETs with undoped-Si0.88Ge0.12 heterostructure channel (Silicon devices and materials: 第15回先端半導体デバイスの基礎と応用に関するアジア・太平洋ワークショップ(AWAD2007))
2007
Keywords:
- Correction
- Source
- Cite
- Save
- Machine Reading By IdeaReader
0
References
0
Citations
NaN
KQI