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SiO_x/TiO_2積層したMIMダイオードにおける抵抗変化特性評価(高誘電率膜,界面制御,メモリ技術,ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
SiO_x/TiO_2積層したMIMダイオードにおける抵抗変化特性評価(高誘電率膜,界面制御,メモリ技術,ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
2013
teruo oota
taiki fukusima
katunori makihara
hideki murakami
seiitirou higasi
seiiti miyazaki
Akio Ohta
Motoki Fukushima
Katsunori Makihara
Hideki Murakami
Seiichiro Higashi
Seiichi Miyazaki
Keywords:
Computer science
Nanotechnology
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