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Procèdè de dèpÔt chimique en phase vapeur à l'aide d'un plasma de dioxyde de silicium à partir de TEOS.
Procèdè de dèpÔt chimique en phase vapeur à l'aide d'un plasma de dioxyde de silicium à partir de TEOS.
1987
David Nin-Kou Wang
John M. White
Kam S. Law
Cissy Leung
Salvador P. Umotoy
Kenneth S. Collins
John A. Adamik
Ilya Perlov
Dan Maydan
Keywords:
Nuclear chemistry
Chemistry
Depot
Materials science
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