Systeme de suivi de procede pour lasers de lithographie

L'invention concerne un systeme destine au suivi de lasers (2) de lithographie dans des ateliers de fabrication d'au moins un circuit integre. Dans chaque atelier, un serveur (6) terminal est associe a chaque laser (2). Une unite (8) serveur de commande central est en communication, concernant chaque atelier de fabrication, avec chacun des lasers (2) via un reseau (7) local. Les informations provenant des lasers (2) est collectee par l'unite (8) serveur de commande central et ces informations sont utilisees pour fournir une information resumee rendue disponible dans un format de site web aux parties interessees possedant une autorisation d'acces.