化学機械研磨用パッド、化学機械研磨用積層体パッド、および化学機械研磨方法

【課題】研磨性能を維持しながら高い終点検出能力を有する化学機械用研磨パッド、化学機械研磨用積層体パッド及び化学機械研磨方法を提供する。 【解決手段】本発明にかかる化学機械研磨用パッド１は、非水溶性マトリックス材と、当該非水溶性マトリックス材中に分散された水溶性粒子とを含有し、研磨面と当該研磨面の反対面の非研磨面を備える化学機械研磨用パッドであって、研磨面から非研磨面に光学的に通じる透光性領域１１を有し、前記透光性領域における前記非研磨面の表面粗さ（Ｒａ）は、前記研磨面の表面粗さ（Ｒａ）より小さい。 【選択図】図１６