Procédé et appareil de formation de film, programme informatique et support de stockage

La presente invention concerne un procede pour la formation d'un film, comprenant la selection correcte des conditions de traitement pour la formation d'un film comme une couche barriere ou un film de culture auxiliaire, le degagement de la partie inferieure d'une partie d'encastrement sous les conditions de traitement et la formation d'un film mince sur les faces laterale et superieure, tout en retirant une couche ayant cause l'augmentation de la resistance electrique dans la partie inferieure de la partie d'encastrement degagee. Une cible metallique (78) est ionisee dans un contenant de traitement (34) pour produire des particules metalliques contenant des ions metalliques et des particules metalliques sont attirees dans un objet (W) monte sur une table de montage (44) par une energie electrique derivee pour former un film mince sur la surface de l'objet avec une partie d'encastrement (5) formee dans sa surface. Pendant que la partie inferieure de la couche la plus inferieure de la partie d'encastrement de l'objet est degagee pour former une partie d'encastrement degagee (12), une premiere couche barriere contenant du metal (10) est formee sur l'objet dans toute sa surface, y compris la surface dans la partie d'encastrement (etape de formation de couche barriere). La partie inferieure de la partie d'encastrement degagee est ensuite degagee et un second film de culture auxiliaire contenant du metal (14A) pour le placage est forme sur l'objet dans sa surface, y compris la surface dans la partie d'encastrement (etape de formation de film de culture auxiliaire).