Appareil de traitement sous vide et procede de formation de pellicules utilisant ledit appareil

Appareil de traitement sous vide permettant de soumettre a differents traitements des tranches de silicium dans un reservoir sous vide, et procede de formation de pellicules utilisant ce dispositif, caracterise par le fait que l'on regle la temperature des tranches pendant la formation de la pellicule en utilisant un thermometre a radiation, les tranches etant notamment transportees vers chaque etage dans une chambre de formation de pellicule sous vide, apres correction de leurs emittances par un etage de correction de temperature combine avec le volet, et leur temperature est regulee a une valeur definie afin de former une pellicule en surface.