Sputtering target and transparent electroconductive film

本发明的目标在于一种溅射靶材，该靶材能够防止在溅射形成透明导电薄膜期间形成瘤状物，从而能够可靠地形成薄膜；并且还在于具有优异蚀刻加工性能的透明导电薄膜。 溅射靶材由包括氧化铟、氧化镓和氧化锌的特定金属氧化物烧结产物(1)，或者由包括氧化铟、氧化镓和氧化锗的特定金属氧化物烧结产物(2)制成。