反射型フォトマスクブランク及びその製造方法、反射型フォトマスク及びその製造方法、並びに、極端紫外光の露光方法

【課題】吸収体層をエッチングして露光転写パターンを形成する際の反射率低下を防止することが可能な反射型フォトマスクブランク及びその製造方法、また、反射型フォトマスク及びその製造方法、並びに、極端紫外光の露光方法を提供する。 【解決手段】反射型フォトマスクブランク１０は、基板１と、基板１上に形成され、露光光の高反射部となる多層反射膜２と、多層反射膜２上に形成され、多層反射膜２を保護する保護膜３と、保護膜３上で、露光光の低反射部として露光光を吸収する吸収体層５と、吸収体層５と保護膜３との間に形成され、吸収体層５の露光転写パターン形成の際に行われるエッチングに対して耐性を有する緩衝膜４とを備え、保護膜３は、炭素を主成分とする薄膜である。 【選択図】図１