Solution de chitosan hydroxyalkyle

L’invention concerne une solution de chitosan hydroxyalkyle caracterise en ce qu’elle contient un chitosan hydroxyle et un acide organique ou un de ses derives dans un solvant aprotique polaire. L’invention concerne egalement un procede de revetement d’une base caracterise en ce qu’il comprend une etape lors de laquelle la solution de chitosan hydroxyalkyle est appliquee sur la surface d’une base, ainsi qu’une autre etape lors de laquelle la base ainsi obtenue est portee a une temperature superieure ou egale a 100 °C pendant au moins une seconde. L’invention concerne donc une solution a un composant de derive de chitosan convenant a une application sur une surface hydrophobe ou lipophile, ladite solution etant stable et non reticulable a temperature ambiante. Cette solution de derive de chitosan forme un film de revetement a base de chitosan presentant une excellente resistance a l’eau apres chauffage et sechage. L’invention concerne egalement un procede de revetement d’une base selon lequel une telle solution est utilisee.