Appareil de traitement de substrat et element d'electrode

L’invention fournit un appareil de traitement de substrat equipe d’une chambre de reaction (1) destinee au traitement d’un substrat (5) ; un moyen de positionnement du substrat (22) destine a placer une pluralite de substrats (5) dans la chambre de reaction (1) l’un au-dessus de l’autre en plusieurs niveaux a intervalles predefinis ; un moyen (10) destine a introduire un gaz de traitement dans la chambre de reaction (1) ; des moyens d’evacuation (6, 7) destines a evacuer l'interieur de la chambre de reaction (1) ; et une pluralite de paires d'electrodes en forme de peigne (17, 18) disposees dans la chambre de reaction (1) destinees a appliquer une tension de courant alternatif de facon a produire un plasma. Chaque paire d’electrodes en forme de peigne est disposee a une distance predefinie de chaque plan de traitement de plasma des substrats (5) places grâce au moyen de positionnement du substrat (22).