Decoupe de masque photographique reflechissant, procede de production de celle-ci, masque photographique reflechissant et procede de production d'un dispositif a semi-conducteurs

La presente invention concerne une decoupe de masque photographique (10) comprenant un substrat (1) ; un film reflechissant multicouche (2) en mesure de reflechir une lumiere d'exposition superpose sur le substrat (1) ; un film de protection (3) pour proteger le film reflechissant (2), superpose sur ce dernier (2) ; une couche absorbante (5) pour absorber une lumiere d'exposition sur le film de protection (3) ; et un film tampon (4) intercale entre la couche absorbante (5) et le film de protection (3) et resistant a la gravure effectuee au moment de la formation d'un motif de transfert d'exposition sur la couche absorbante (5), ledit film de protection (3) consistant en un compose contenant Zr et Si, ou un compose contenant Zr et Si et au moins O ou N, ou une substance elementaire ou compose contenant au moins un parmi Ru, C et Y.