Procédé de nettoyage de résidus de platine sur un substrat de semi-conducteur

L'invention concerne un procede de nettoyage de residus de platine a partir d'une surface d'un substrat. Le procede demarre par l'exposition de la surface a une premiere solution contenant un melange d'acide nitrique et d'acide chlorhydrique. Ensuite, la surface est exposee a une seconde solution contenant de l'acide chlorhydrique.