Verfahren zum Ätzen einer Metallschicht

Plasmachemisches Verfahren zum Atzen einer Metallschicht (13) aus Wolfram oder einer Wolframlegierung, die auf einer Schicht (11, 12) vorhanden ist, die aus Titan und einer Titanverbindung besteht, auf einer Isolationsschicht (10), die durch Atzen gebildete Durchgangslocher aufweist, wobei die Metallschicht (13) die Isolationsschicht (10) abdeckt und die Durchgangslocher auffullt, die Metallschicht (13) selektiv uber dieser Schicht (11, 12) mit Ausnahme der Teile, die in den Durchgangslochern niedergeschlagen sind, weggeatzt wird, als Atzgas ein reaktives Mischgas aus einem aus CF 4 , C 2 F 6 und C 3 F 8 ausgewahlten Gas mit Fluoratomen, einem Gas mit Chloratomen und Sauerstoffgas verwendet wird, und das selektive Atzen in einer Atzkammer (2) durchgefuhrt wird, die stromabwarts eines Plasma-Entladungsrohres (6) angeordnet ist, mit einer aktiven Spezies, die Fluorradikale als Hauptbestandteil enthalt.