Technique pour evaluer la fabrication d'une plaquette et d'un composant semi-conducteur

2004 
L'invention concerne la fabrication d'une plaquette. Cette fabrication peut etre analysee a partir du moment ou la plaquette est dans un etat partiellement fabrique. La valeur d'un parametre de performance specifie peut etre determinee au niveau d'une pluralite d'emplacements, sur une zone active d'un de de la plaquette. On sait que ce parametre de performance specifie est indicatif d'un procede de fabrication particulier de la fabrication. Des informations d'evaluation peuvent ensuite entre obtenues en fonction de la variance de la valeur du parametre de performance au niveau de la pluralite d'emplacements. Ceci peut s'effectuer sans modifier l'aptitude a l'usage de la puce creee a partir du de. Les informations d'evaluation peuvent etre utilisees pour evaluer la maniere dont s'effectue ou sont effectues un ou plusieurs procedes y compris le procede de fabrication particulier, indique par la valeur de parametre de performance.
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