位相シフトフォトマスクブランクス、位相シフトフォトマスク、及びそれらの製造方法。

(57)【要約】 【目的】 光学的特性と耐薬品性を満足させ、パターン 精度がよく、パターン欠けが生じない位相シフトフォト マスクを提供することにある。 【構成】 露光光の位相をシフトさせる位相シフト膜1 0、40を成膜する際、厚みの中央付近を、単一の組成で 成膜したときにサイドエッチング速度Sが遅い組成にし て位相シフトフォトマスクブランクス31、37を作り、前 記位相シフト膜10、40の厚み方向で異なるサイドエッチ ング量の差を小さくし、ドライエッチングにより位相シ フトフォトマスク35、39を作る際、シフター部7、17の 側面を透明基板5、15から略垂直に立ち上げる。この位 相シフト膜としてモリブデンシリサイド酸化窒化膜を用 いる場合にはスパッタリングの際のＮＯガス添加割合を 調節すればよい。