Projection exposure system for semiconductor lithography and their components and manufacturing process of such components

Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage fur die Halbleiterlithographie mit einer Mehrzahl von Komponenten, wobei mindestens eine Komponente eine mittels selektiven Laseratzens hergestellte Struktur aufweist. Des Weiteren betrifft die Erfindung ein Herstellungsverfahren derartiger Komponenten.