基板載置機構、基板処理装置、基板載置機構上への膜堆積抑制方法及び記憶媒体

【課題】膜の堆積を抑制することが可能な基板載置機構を提供すること。 【解決手段】被処理基板載置面２１ａを有し、被処理基板Ｗを、膜が堆積される成膜温度に加熱する加熱体２１ｂが埋設されたヒータープレート２１と、少なくともヒータープレート２１の被処理基板載置面２１ａ以外の表面を覆うように形成され、温度が成膜温度未満の非成膜温度とされる温調ジャケット２２と、を具備する。 【選択図】図１