Colonne de faisceau d'electrons pour l'inscription de faisceaux d'electrons formes

L'invention concerne une colonne de faisceau d'electrons qui comprend : une source d'electrons d'emission de champ thermique permettant de generer un faisceau d'electrons, un module d'elimination de faisceau d'electrons, un module de formation de faisceau, une optique de faisceau d'electrons qui comporte une pluralite de lentilles de faisceau d'electrons. Dans une version, les parametres optiques du module d'elimination de faisceau, du module de formation de faisceau, et des optiques du faisceau d'electrons sont etablis de facon a obtenir un semi-angle d'ouverture β compris entre environ 1/4 et environ 3 mrad, ledit semi-angle d'ouverture β representant la moitie de l'angle sous-tendu par le faisceau d'electrons au niveau du plan d'inscription. Le module de formation de faisceau peut egalement faire office de lentille unique au moyen de lentilles de projection superieure et inferieure. L'invention concerne egalement un module multifonction pour une colonne de faisceau d'electrons.