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Ge(100)表面の極薄TiO_xキャッピングによるHfO_2原子層堆積/熱処理時の界面反応制御(ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
Ge(100)表面の極薄TiO_xキャッピングによるHfO_2原子層堆積/熱処理時の界面反応制御(ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
2011
hideki murakami
tomohiro fuzioka
teruo oota
kento misima
seiitirou higasi
seiiti miyazaki
Hideki Murakami
Tomohiro Fujioka
Akio Ohta
Kento Mishima
Seiichiro Higashi
Seiichi Miyazaki
Keywords:
Computer science
Atomic physics
Atomic layer deposition
Artificial intelligence
Chemical physics
interfacial reaction
Pattern recognition
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