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各種薄膜付きシリコンウエハの温度変化による放射熱物性計測に関する検討(オーガナイズドセッション5 熱物性とその計測法)
各種薄膜付きシリコンウエハの温度変化による放射熱物性計測に関する検討(オーガナイズドセッション5 熱物性とその計測法)
2004
takuzi kitani
éå² ä½ã æ¨
kazusige kikuta
takemi kin kyuu
kou otto hisinuma
hidehisa hongou
syuuhei nisi dou
Keywords:
Thin film
LOCOS
Wafer
Composite material
Materials science
Optoelectronics
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