パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、電子デバイスの製造方法、電子デバイス、及び、化合物

【課題】超微細パターン（特に５０ｎｍ以下のトレンチパターンやホールパターン）形成において、ラフネス性能、デフォーカス性能が高く、解像力及び露光ラチチュードに優れた、パターン形成方法、感光性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜及び化合物、電子デバイス製造方法及び電子デバイスの提供。 【解決手段】（ア）一般式（Ｉ−１）で表される化合物（Ａ）と、化合物（Ａ）と異なる活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｂ）と、化合物（Ａ）からの発生酸と作用せず、化合物（Ｂ）からの酸の作用で含有機溶剤現像液に対する溶解度が減少する樹脂（Ｐ）とを含有する感光性又は感放射線性樹脂組成物を含む膜を形成する工程、（イ）露光する工程、（ウ）含有機溶剤現像液で現像しネガ型のパターンを形成する工程を含むパターン形成方法、感光性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、化合物（Ａ）、電子デバイスの製造方法及び電子デバイス。 【選択図】なし