Reflektives optisches Abbildungssystem

Ein optisches Abbildungssystem, das zur Abbildung eines in einer Objektebene des Abbildungssystems angeordneten Musters in eine Bildebene des Abbildungssystems mit Hilfe von elektromagnetischer Strahlung aus einem Wellenlangenbereich um eine Hauptwellenlange λ 0 , dient, hat eine Vielzahl von Spiegeln, wobei jeder Spiegel eine Spiegelflache mit einer reflektiven Schichtanordnung mit einer Abfolge von Einzelschichten aufweist. Die Spiegelflachen sind im Strahlengang zwischen der Objektebene und der Bildebene derart angeordnet, dass jede Schichtanordnung aus einem fur den Spiegel charakteristischen Inzidenzwinkelbereich bestrahlbar ist und fur jeden bei einem Inzidenzwinkel AOI auftreffenden Strahl eine mittlere Phase (AOI) = (PHI p + PHI s )/2 erzeugt, wobei PHI p die Phase fur eine p-polarisierte Strahlungskomponente und PHI s die Phase fur eine s-polarisierte Strahlungskomponente ist. Der Wellenlangenbereich hat eine zwischen einer unteren Nebenwellenlange λ min λ 0 gemessene Wellenlangenbandbreite Δλ von mindestens 0.25 nm. Mindestens einer der Spiegel mit einem Inzidenzwinkelintervall von mehr als 8° weist eine phasenoptimierte Schichtanordnung auf, bei der fur jeden Inzidenzwinkel des Inzidenzwinkelintervalls eine relative mittleren Phase fur jede Wellenlange innerhalb der Wellenlangenbandbreite um maximal 25° von der relativen mittleren Phase bei der Hauptwellenlange abweicht.