DC 마그테트톤 스퍼터링으로 GdFe 광자기기록용 박막을 복합타켓 배열방법에 따라 제작할때 각 원소의 증착속도의 차이로 인한 특성의 변화를 구하였다. 조성은 증착속도가 증가함에 따라 Gd atomic %가 줄어들며 1.0 Å/s 이상의 증착속도에서는 다소 증가하였다가 감소하는 변화를 보였다. 투입전력에 따른 증착속도는 거의 선형적으로 증가하며, Gd chip의 수를 증가시킬수록 스퍼터링 효율이 높아지는 것으로 나타났다. 투입전력이 증가함에 따라 박막의 보자력도 증가하는데, 이는 Fe 결정립의 크기가 커짐에 따른 것으로 해석된다. 이 실험을 위하여 확산방지벽을 제작하여 스퍼터링에 적용하였고, 이는 재현성을 높이는데 효과가 있었다. Kerr angle gauge를 제작하여 θk를 측정하였고 θk는 증착속도에 따라 큰 변화가 없음을 알았다.
요골동맥의 운동에 대한 공간적 맥진파형 특징을 얻기 위해 2차원 배열 자기터널접합(magnetic tunnel junction; MTJ) 센서를 이용하여 공간 맥진파형 진단장치(spatial pulse diagnostic apparatus; SPDA)를 설계 하였다. 자극배열의 위치변동에 대한 자장 분포의 변화는 2차원 자기장 유한요소해석 소프트웨어(finite element method magnetics; FEMM)를 사용하여 모의실험을 하였다. 그 결과 평행한 자극배열에서 높은 감도와 균일한 자기장 분포를 얻을 수 있다. 또한 자석배열의 공간 변위 변화는 MTJ 센서의 출력신호 변화와 비례하였다.
어레이(array) 자성센서 개발을 위해 고진공 스퍼터링 증착장비를 이용하여 스펙큘러형(specular type) Glass/Ta(5)/NiFe(7)/IrMn(10)/NiFe(5)/O₂/CoFe(5)/Cu(2.6)/CoFe(5)/O₂/NiFe(7)/Ta(5)(㎚) 거대자기저항-스핀밸브(giant magnetoresistive-spin valves; GMR-SV) 박막을 제작하였다. 다층박막 시료를 20 × 80 ㎛²의 미세 활성영역을 가진 15개 어레이를 8 ×8 ㎟ 영역 내에 최적화한 제작 조건으로 광 리소그래피 패터닝 하였다. Cu를 증착하여 만든 2단자 전극법으로 측정한 자성특성은 15개 모든 소자들이 균일한 자기저항특성을 나타내었고, 5 Oe 근방에서 가장 민감한 자기저항비 자장민감도와 출력전압들은 각각 0.5 %/Oe, ?V = 3.9 ㎷이었다. 형상자기이방성이 적용된 상부 자유층 CoFe/O₂/NiFe층은 하부 고정 자성층 IrMn/NiFe/O₂/CoFe층 자화 용이축과 직교하였다. 측정시 인가전류 값을 각각 1 ㎃에서 10 ㎃까지 인가하였을 때 출력 작동 전압 값은 균일하게 증가하였으며, 자장감응도도 거의 일정하여 미세 외부자장에 민감한 나노자성소자로서 좋은 특성을 띠었다.
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