Beleuchtungssystem für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage, Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage mit einem solchen Beleuchtungssystem sowie Fourieroptiksystem

Ein Beleuchtungssystem fur eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage zur Beleuchtung eines Beleuchtungsfeldes mit dem Licht einer primaren Lichtquelle hat eine variabel einstellbare Pupillenformungseinheit zum Empfang von Licht der primaren Lichtquelle und zur Erzeugung einer variabel einstellbaren zweidimensionalen Intensitatsverteilung in einer Pupillenformungsflache des Beleuchtungssystems. Die Pupillenformungseinheit hat ein Fourieroptiksystem zur Umwandlung eines durch eine Eintrittsebene des Fourieroptiksystems eintretenden Eintrittsstrahlbundels in ein aus einer Austrittsebene des Fourieroptiksystems austretendes Austrittsstrahlbundel. Das Fourieroptiksystem hat eine Brennweite f FOS und eine zwischen einer eintrittsseitigen ersten Systemflache und einer austrittsseitigen letzten Systemflache entlang einer optischen Achse gemessene Baulange L und es gilt die Bedingung (L/f FOS ) < 1/6.