Efeito do substrato/espessura na indução de alterações conformacionais em poli(fluorenos)

Neste trabalho foram estudadas as propriedades fotofisicas de dois derivados de polifluoreno, F8BT e PFO-MEHPPV, visando determinar a influencia de substratos sobre as mesmas. Os materiais na forma de filme foram depositados por spin coating em substrato de vidro e de vidro recoberto com ITO, sendo que as espessuras variaram de 50 nm a 600 nm, alem de um filme preparado por casting com espessura de 50 ?m. As propriedades fotofisicas estudadas foram: os espectros de emissao, a largura a meia altura (FWHM) dos espectros, a posicao do maximo de emissao da banda 0-0 em funcao da temperatura e a progressao vibronica dos espectros de emissao. Para ambos os polimeros e dentro da faixa de espessura estudada foi verificado que a diminuicao na espessura do filme causa tambem uma diminuicao na temperatura de transicao vitrea, sendo que abaixo de 450 nm o filme fino apresenta desvios de comportamento de bulk. O tipo de substrato nao influenciou nas temperaturas de relaxacao. Foi possivel dividir os filmes de F8BT em dois grupos: espessuras de 52-185 nm que induzem maiores alargamentos inomogeneos e, portanto possuem ambientes cibotaticos heterogeneos para os fluoroforos inseridos na matriz; e espessuras maiores que 450 nm que possuem Tg maiores e menores alargamentos inomogeneos com ambientes mais homogeneos ao longo da matriz. Para o PFO-MEHPPV temos a relacao que quanto maior a espessura, maior a Tg e maior o alargamento inomogeneo. Filmes mais espessos de PFO-MEHPPV encontram-se localmente menos organizados, e diferentemente do observado para os filmes de F8BT, o substrato estaria favorecendo algum grau de organizacao nos filmes em relacao ao bulk. Medidas de tempo de vida de fluorescencia foram utilizadas para estudar as interacoes nas interfaces do polimero orgânico com ITO e aluminio. A camada de aluminio foi considerada supressora para as diversas espessuras estudadas, e esta supressao foi atribuida aos processos de interferencia, transferencia de energia para o eletrodo metalico e difusao excitonica. O processo de interferencia foi determinado atraves de modelo existente na literatura e sua menor contribuicao ocorre em espessuras menores, nas quais os processos de transferencia de energia sao importantes. Com isso, foi possivel concluir, a partir de todos os dados fotofisicos obtidos, que para espessuras acima de 450 nm os filmes deixam de ter comportamento de filme fino. Abstract