Conditionnement de gaz d'echappement secs

Cette invention concerne un appareil et des procedes de traitement des gaz et notamment, mais pas uniquement, un appareil et des procedes utilises avec des produits d'echappement provenant d'un processus de fabrication de semi-conducteurs. Une colonne de reacteur (10) comprend une admission (11) agencee en sa partie inferieure ainsi qu'une sortie (12). Entre l'admission et la sortie, la colonne est divisee en trois etages sequentiels contenant: du silicium ou des matieres contenant du silicium, de la chaux vive ou de la soude vive ainsi que de l'oxyde de cuivre ou des reactifs d'oxyde de cuivre.