Al_（0.6）Ga_（0.4）N/GaN/Al_（0.3）Ga_（0.7）N/Al_（0.6）Ga_（0.4）N量子阱中的Rashba自旋劈裂

正如人们所知,可以通过电场或者设计非对称的半导体异质结构来调控体系的结构反演不对称性（SIA）和Rashba自旋劈裂.本文研究了Al_（0.6）Ga_（0.4）N/GaN/Al_（0.3）Ga_（0.7）N/Al_（0.6）Ga_（0.4）N量子阱中第一子带的Rashba系数和Rashba自旋劈裂随Al_（0.3）Ga_（0.7）N插入层（右阱）的厚度w_s以及外加电场的变化关系,其中GaN层（左阱）的厚度为40-w_s？.发现随着w_s的增加,第一子带的Rashba系数和Rashba自旋劈裂首先增加,然后在w_s〉20？时它们迅速减小,但是w_s〉30？时Rashba自旋劈裂减小得更快,因为此时k_F也迅速减小.阱层对Rashba系数的贡献最大,界面的贡献次之且随w_s变化不是太明显,垒层的贡献相对比较小.然后,我们假设w_s=20？,发现外加电场可以很大程度上调制该体系的Rashba系数和Rashba自旋劈裂,当外加电场的方向同极化电场方向相同（相反）时,它们随着外加电场的增加而增加（减小）.当外加电场从-1.5×10~8V·m^-1到1.5×10~8V·m^-1变化时,Rashba系数随着外加电场的改变而近似线性变化,Rashba自旋劈裂先增加得很快,然后近似线性增加,最后缓慢增加.研究结果表明可以通过改变GaN层和Al_（0.3）Ga_（0.7）N层的相对厚度以及外加电场来调节Al_（0.6）Ga_（0.4）N/GaN/Al_（0.3）Ga_（0.7）N/Al_（0.6）Ga_（0.4）N量子阱中的Rashba系数和Rashba自旋劈裂,这对于设计自旋电子学器件有些启示.