加熱処理装置の温度校正方法、現像処理装置の調整方法、及び半導体装置の製造方法

【課題】装置間の温度が異なることにより感光性樹脂膜が得た実効的な露光量が装置間で変動することを抑制する。 【解決手段】複数の加熱処理装置を用意する工程と、用意された各加熱処理装置について、露光量モニタパターンが形成された基板を複数の設定温度で加熱処理を行う工程と、前記冷却処理後、或いは前記現像工程後のいずれかにおいて、露光量モニタパターンの状態を測定する工程と、複数の設定温度と測定された露光量モニタパターンの状態とから、各加熱処理装置について設定温度と実効的な露光量の関係を求める工程と、求められた関係から、各加熱処理装置について、所定の実効的な露光量が得られるように補正する工程とを含む。 【選択図】 図１