Cible pour pulvérisation cathodique, son procédé de production, et procédé de production d'un dispositif à semi-conducteur

Selon un mode de realisation, l'invention porte sur deux ensembles ou plus d'operations de corroyage et de forgeage, un ensemble etant un procede de forgeage a froid d'un materiau de titane de forme cylindrique, dans une direction perpendiculaire a l'epaisseur et dans une direction perpendiculaire a l'epaisseur de ce materiau. Apres chauffage a une temperature de 700°C pour recristalliser le materiau de titane, on procede a deux ensembles ou plus d'operations de corroyage et de forgeage, un ensemble etant un procede de forgeage a froid du materiau de titane de forme cylindrique dans une direction parallele a l'epaisseur et dans une direction perpendiculaire a l'epaisseur de ce materiau. En outre, apres laminage a froid du materiau de titane, le materiau de titane est soumis a un traitement thermique par chauffage a une temperature de 300°C ou plus.