グラフェンの作製方法、グラフェン、グラフェン作製装置及び半導体素子
2009
【課題】半導体製造プロセスに適するグラフェン構造の作成方法及び作成装置を提供する。 【解決手段】少なくとも水素または希ガスの1種を含む第1のガスから生成する第1プラズマを、基板30に担持された少なくともCo、Ni、Feのいずれかを含む薄膜に供給する第1工程と、炭化水素系ガスを含む第2のガスから、ラジカルを含む第2プラズマを生成し、前記第2プラズマを、前記ラジカル以外の第2プラズマの進入を遮蔽する平板電極4を通して前記ラジカルを前記薄膜に供給する第2工程と、希ガスを含む第3のガスから生成する第3プラズマを、前記薄膜に供給する第3工程とを含む。 【選択図】図1
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