Structure de marqueur et son procédé de formation

L'invention concerne une structure de marqueur pour l'alignement optique d'un substrat dispose dessus. La structure de marqueur comporte une premiere surface reflechissante a un premier niveau et une seconde surface reflechissante a un second niveau. Une separation entre le premier niveau et le second niveau determine une condition de profondeur de phase. La structure de marqueur comporte en outre une structure supplementaire. La structure supplementaire est concue pour modifier la separation pendant la fabrication de la structure de marqueur. L'invention concerne en outre un procede de formation d'une telle structure de marqueur.