Beleuchtungssystem für eine Projektionsbelichtungsanlage für die Projektionslithographie

Ein Beleuchtungssystem fur eine Projektionsbelichtungsanlage (1) fur die Projektionslithographie hat eine Beleuchtungsoptik (6) zur Fuhrung von Beleuchtungslicht (3) einer Lichtquelle (2) hin zu mindestens zwei raumlich voneinander getrennt angeordneten Beleuchtungsfeldern (4a, 4b), in denen jeweils ein Objekt (10a, 10b) anordenbar ist. Eine Projektionsoptik (7a, 7b) dient zur Abbildung von Objektfeldern, die jeweils in den Beleuchtungsfeldern (4a, 4b) angeordnet sind, in jeweils ein Bildfeld (8a, 8b). Die Beleuchtungsoptik (6) ist so ausgefuhrt, dass jedes der Bildfelder (8a, 8b) mit einem Beleuchtungslicht-Anteil (3a, 3b) mit jeweils eigenem Polarisationszustand beleuchtet ist, wobei Beleuchtungslicht (3a, 3b) mit mindestens zwei Polarisationszustanden zum Einsatz kommt. Es resultiert ein Beleuchtungssystem, mit dem eine hohere Transmission des Beleuchtungssystems, also ein verbesserter Durchsatz der Komponenten des Beleuchtungssystems mit dem Beleuchtungs- bzw. Abbildungslicht, und eine verbesserte Abbildung erreicht wird.