Procedes et systemes de traitement par cristallisation au laser de partie de films sur substrats utilisant un faisceau lineaire, et structure de ces parties

L'invention porte sur un procede et un systeme de traitement d'un echantillon de film mince ainsi qu'au moins une partie de la structure d'un film mince. A cet effet, on peut creer des impulsions de faisceau dont une au moins comporte une partie avant, une partie centrale et une partie arriere, une de ces partie au moins presentant une intensite suffisante pour faire fondre au moins partiellement un echantillon du film. Apres avoir irradie une premiere partie de l'echantillon du film pour la faire fondre au moins partiellement, on la laisse se resolidifier et cristalliser de maniere a y former une zone sensiblement uniforme. Apres irradiation de la premiere partie de l'echantillon, on en irradie une deuxieme a l'aide d'une deuxieme impulsion de faisceau lineaire pour la faire fondre au moins partiellement, puis on la laisse se resolidifier et cristalliser de maniere a y former une zone sensiblement uniforme. On evite ainsi que la section de la premiere partie, frappee par la partie superieure de la premiere des impulsions de faisceau lineaire, ne soit frappee par la partie arriere de la deuxieme des impulsions du faisceau lineaire.