Système de traitement post-gravure permettant de retirer un résidu sur un substrat

L'invention concerne un systeme de traitement post-gravure permettant de retirer une resine photosensible et un residu de gravure formes lors d'un procede de gravure. Par exemple, le residu de gravure peut comprendre un materiau contenant des halogenes. Le systeme de traitement post-gravure comprend une chambre a vide, un systeme de formation de radicaux couple a la chambre a vide, un systeme de distribution de gaz radicalaire couple au systeme de formation de radicaux et concu pour distribuer des radicaux reactifs sur un substrat, et un socle haute temperature couple a la chambre a vide et concu pour soutenir le substrat. Le socle haute temperature comprend une surface superieure entaillee concue pour minimiser le glissement du substrat.