Composition pour formation d'un film antireflet

L'invention concerne une composition pour formation d'un film antireflet, comprenant un compose de l'uree substitue par un hydroxyalkyle ou un alcoxyalkyle et contenant, de preference, un compose absorbant la lumiere et/ou une resine absorbant la lumiere ; un procede de formation d'un film antireflet pour un dispositif semi-conducteur utilisant ladite composition ; ainsi qu'un procede de production d'un dispositif semi-conducteur comprenant l'utilisation de ladite composition. La composition absorbe, de facon satisfaisante, une lumiere presentant des longueurs d'onde utilisees dans la production des semi-conducteurs. A cet effet, la composition est hautement efficace dans l'elimination de la lumiere reflechie. Elle possede en outre une vitesse de gravure a sec plus elevee que les couches photoresists.