Appareil de traitement au plasma

L'invention concerne un appareil de traitement au plasma permettant d'acheminer uniformement un gaz dans un espace situe entre une electrode de cathode et une electrode d'anode, meme lorsque l'aire des deux electrodes est accrue, et de reduire l'epaisseur des deux electrodes pour les rendre minces. Deux paires constituees d'une electrode d'anode (4) et d'une electrode de cathode (12) sont disposees face a face dans une chambre (15) d'un appareil de traitement au plasma (100). L'electrode de cathode (12) comprend une plaque d'aspersion (2), un panneau arriere (3) et une chambre creuse (17). La plaque d'aspersion (2) comporte un premier port d'injection de gaz (18) permettant d'injecter un gaz introduit dans la chambre creuse (17) dans un espace situe entre les deux electrodes (12, 4). Sur une surface d'extremite d'electrode d'une surface inferieure (une paroi interieure de chambre creuse (19) faisant face a la plaque d'aspersion (2)) du panneau arriere (3), un port d'introduction de gaz (31) permet d'introduire un gaz de l'exterieur. Sur la paroi interieure de la chambre creuse (19), un deuxieme port d'injection de gaz (32) permettant d'injecter le gaz dans la chambre creuse (17) et une partie de conduite de gaz (33) destinee a conduire le gaz vers le deuxieme port d'injection de gaz (32) a partir du port d'introduction de gaz (31) sont formes.