Vorrichtung zur vakuumbehandlung von substraten in einer vakuumbeschichtungsanlage und vakuumbeschichtungsanlage mit einer vorrichtung

Die erfindungsgemase Vorrichtung zur Vakuumbeschichtung von Substraten in einer Vakuumkammer zeichnet sich aus durch eine Saugeinrichtung (19), die eine oder mehrere Absaugoffnungen (80) fur Gase und zumindest eine, mit der oder den mehreren Absaugoffnungen (80) verbundene Pumpen (12, 16) aufweist, wobei die eine oder mehreren Absaugoffnungen (80) einen Wirkungsbereich aufweisen, der sich parallel einer Langsachse (70) der Substrattragereinrichtung (60) mindestens doppelt so weit erstreckt wie in einer Richtung senkrecht dazu. Ferner betrifft die Erfindung eine Vakuumbeschichtungseinrichtung zur Vakuumbeschichtung mittels der Vorrichtung.