Procede et dispositif pour traiter des substrats metalliques au defile par plasma

L'invention est relative a un procede de traitement, notamment de nettoyage et/ou de chauffage, d'un substrat metallique (1) defilant d'une maniere sensiblement continue dans une chamber a vide (3) presentant une zone de traitement dans laquelle une decharge electrique (10), c.a.d. un plasma, et un champ magnetique sont produits dans un gaz maintenu a une pression inferieure a la pression atmospherique entre un moins le substrat (1), formant une electrode, et au moins une contre-electrode (9) afin que le substrat (1) puisse etre bombarde par des ions produits dans la decharge electrique (10). Ce procede est caracterise en ce qu'un champ d'induction magnetique de confinement est realise tout autour du substrat (1) dans la zone de traitement de sorte que la decharge electrique (10) est egalement confinee tout autour du substrat (1) dans cette zone de traitement par le confinement l'electrons liberes dans la decharge electrique (10).