대면적 투과 제어 블랭마스크 및 이를 이용한 포토마스크의제조방법

본 발명은 식각저지막 및 투과제어막으로 이루어진 반투광부와 차광부 및 투광부를 형성하는데 있어, 반투광부의 투과제어막을 건식 식각방법을 이용하여 제조함으로서 고해상도의 핵심치수 (CD: Critical Dimension) 사이즈를 보다 용이하게 구현가능하게 하며 피사체의 패턴 프로파일이 정밀하게 제어 가능한 장점을 가지는 평판 디스플레이 제조용 대면적 투과 제어 블랭크 마스크 및 포토마스크에 관한 것이다. 또한 석영 기판과 투과제어막 사이에 식각저지막을 구비함으로서 건식식각 공정시 투명기판의 손상을 방지함으로서 공정 수율의 상승을 기대할 수 있는 특징을 가지고 있다. 또한 반투광부, 투광부 및 차광부에서의 콘트라스트가 커서 패턴 검사가 용이한 장점을 가지고 있다. 액정표시장치, 대면적 투과 제어 블랭크 마스크, 대면적 포토마스크, 투과율, 식각저지막