CMOS and beyond : Les défis techniques de la microélectronique

Pour fabriquer des structures de geometries inferieures a 70 nm, de nouvelles techniques de lithographie basees sur la projection d'electrons ou les UV extremes sont developpees. Leurs caracteristiques principales sont discutees dans cet article. Au-dela de ces geometries, pour l'integration ultime, une approche alternative pourrait consister a partir d'objets intrinsequement nano-metriques auto-assembles par des techniques chimiques pour former les composants ayant les fonctionnalites electroniques voulues. Plusieurs classes de nano-structures presentant un potentiel interessant en ce sens sont analysees dans cet article : les nano-tubes de carbone, l'acide deoxyribonucleique et certaines molecules organiques synthetiques.