Preparation and Properties of Magnetron Sputtered Fluorinated and Hydrogenated Amorphous SiC Films

Fluorinated and hydrogenated amorphous silicon carbon alloy films are prepared by magnetron sputtering of silicon in Ar-H2-CF4 gas mixtures. The dependence of structural, optical, and optoelectronic properties of the films on the partial pressure of CF4 are investigated. It is found that the photosensitivity of magnetron sputtered hydrogenated amorphous silicon is improved by one order of magnitude, accompanied by a slight increase in the optical band gap, by the introduction of CF4. Fluorisierte und hydrogenisierte amorphe Silizium-Kohlenstoff-Legierungsschichten werden durch Magnetron-Sputtern von Silizium in Ar-H2-CF4-Gasmischungen hergestellt. Die Abhangigkeit der strukturellen, optischen und elektrooptischen Eigenschaft von CF4-Partialdruck der Schichten wird untersucht. Es wird gefunden, das die Photoempfindlichkeit des Magnetron-gesputterten hydrogenisierten amorphen Silizium etwa um eine Grosenordnung bei Einleitung von CF4 verbessern wird, und das dieses mit einer schwachen Zunahme der optischen Energielucke verbunden ist.