付着物の除去方法、ドライエッチング方法、及び基板処理装置

七フッ化ヨウ素を含むエッチングガスを用いたエッチング時の不具合を抑制する。 チャンバーを構成する部材またはチャンバーに接続された配管の表面に付着している、ヨウ素酸化物を含む付着物を、フッ素含有ガスを含むクリーニングガスを用いて除去する付着物の除去方法が提供される。また、チャンバー内にヨウ素含有ガスを含むエッチングガスを供給して基板表面をエッチングする工程と、基板表面をエッチングした後、チャンバーを構成する部材またはチャンバーに接続された配管の表面に付着したヨウ素酸化物を含む付着物を、フッ素含有ガスを含むクリーニングガスを用いて除去する工程と、を含むドライエッチング方法が提供される。