БЕРИЛЛИЕВЫЕ РЕНТГЕНОЛИТОГРАФИЧЕСКИЕ ШАБЛОНЫ

Описана простая технология производства рентгенолитографических шаблонов с бериллиевыми несущими мембранами толщиной 50 100 мкм с различными типами маскирующего покрытия: в виде сформированных гальваническим осаждением металлических слоев или в виде толстой (толщиной 0.13 1.10 мм) резистивной маски, выполненной, в том числе, и из сенсибилизированного рентгенорезиста. Бериллиевые шаблоны характеризуются относительной простотой изготовления, геометрической стабильностью, практически полным отсутствием флуоресцентного излучения, низкой себестоимостью, высокими уровнями механической прочности, радиационной стойкости и рентгенопрозрачности несущей мембраны. Благодаря этому они могут применяться не только в диапазоне ультракоротких (0.5–3.0 A) длин волн рентгеновского излучения, но и в диапазоне 3–7 A. Приведены фотографии первых образцов таких шаблонов и расчетные графики, иллюстрирующие их основные литографические параметры.